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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

工作大环境 该半导产生单位坐落豫东区域,一般研发集成式用电线路操作芯片,日进行污染物含氟污生产废水 约800吨。会因为偏远地区健康标准单位提高了,原始操作的设施没法满意氟化物进行污染物质量浓度最低5mg/L的新条件,单位投入资金1八百万元重建行业含氟污生产废水 操作装置。 生活污水营养成分及来源于 废液还有来始于于电子器件创造过程中 中的刻蚀生产工艺和除污生产工艺,还有空气大气污染物还有: 氟化合物酸度:300-800mg/L pH值:2- 含带大量硅酸盐、聚磷酸盐 氢化物发生器巨资属如铜、镍等 加工处理工艺技术流量 使用"预外理+催化悠长岁月中+厚度外理"乐队组合加工制作工艺 : 缓解池:教育均衡发展水源用水量,设置成pH线上检测 1阶段反映池:加药氢硫化钙,把控好pH至7-8,导致氟化钙析出 两级沉定池:沉定剥离氟化钙废水 二次想法池:添加氯化钙和缔合氯化铝,进的一步洗去多余氟铁离子 下级奠定物池:四次奠定物脱离 砂滤体系:除掉漂浮物 活性酶类炭降解:清除设计物和少量天价属 工业废水治疗模式:板框压滤过滤,工业废水水分含量率降为60%一下 终结郊果 控制系统程序运行稳固后,出水出水污水水质: 氟正离子有机废气浓度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 巨资属含铁均达不到排除限 非常能够满足《微电子化学工业水水固体废弃物释放规格》(GB39731-2020)请求,每一年减小氟化物释放约180吨。

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