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半导体加工废水处理案例|半导体加工废水处理方法

好项目游戏背景 该半导体材料设备行业座落在长三角经济区型东北部,关键产出加工8寸大和12寸大晶圆,日摆放废出水量约2000吨。仍然半导体材料设备产出加工方法复杂性,生活污水的成分产品且富含多难溶解物,行业原本补救设备没有办法做到愈发从严的安全摆放规范,故投资者5000万元新修正规专业生活污水补救站。 废水处理工艺化学成分及从何而来 该单位废水处理工艺其主要涵盖四种: 含氟化工废水:来起源于于晶圆蚀刻、进行维护清洁工作,氟阴离子浓度值更是高达2000mg/L; 可挥发酸废渣:来自于光刻、显影液等加工制作工艺 ,包含有异丙醇、甲苯等可挥发酸石油醚,COD值在5000mg/L范围; 碱酸废水解决方法:行成于拆洗和外表解决各个环节,pH值振幅大; 含铜废污水:产于电镀锌和金属材质化学工业艺,铜化合物质量浓度约150mg/L。 正确处理施工工艺生产流程图 争对各不相同规定性的废水操作加工过程,选取"进行分类收集整理+分质操作+尾部深浅操作"的搭配组合加工过程: 含氟废水清理工艺清理线: 二级化学式积淀自己:先添加氯化钙调理pH至6-7,加个入PAC和PAM二沉池积淀自己; 催化活性钝化铝过滤:保障氟铁离子溶度调至8mg/L以內。 生物碳生产废水加工线: 微电解法反应迟钝:铁碳活性炭过滤器床预外理提升废污水可生物化性; UASB好氧池想法器:HRT=24h,COD去掉率65%; MBR膜生态学作用器:通过PVDF弧形棉纤维膜,水流COD<50mg/L。 酸性污水中合体系: 主动pH调接:进行在线平台监测系统仪控住加酸加碱量; 斜管沉积池沉积:除去中合会产生的浮动物。 含铜废污水补救: 化学工业滤渣:污泥脱水NaOH调试pH至9-10,产生氢空气氧化铜滤渣; 亚铁正离子交易:确保安全铜亚铁正离子含量<0.3mg/L。 深层外理单位: O3促使硫化:进一歩化学降解难分解掉有机肥料物; 生物炭过滤水:快速清理碱度和氢化物发生器造成的工业废气; UV紫外线灭菌灯线杀菌:确认冒水微生物培养基学统计指标达到。 决定性视觉效果 新项目开机工作后,出水量饮用水稳定性满足《光电子重工业水感染物排污物基准》(GB 39731-2020)特备排污物卫生防护距离特殊要求,另外氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜<0.3mg/L。今年可避免氟化物排污物约120吨,COD排污物约400吨,利用水資源约十万吨。机系统自动式化的情况高,开机工作料工费掌握在8.5元/吨水前后。

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