该晶圆制作厂是在华东城市城市，主要是产生85英寸半导体技术晶圆，单日工业废水排卸量约800吨。主要是因为产生时候中实用巨大盐酸参与晶圆蚀刻，形成工业废河中氟化物含量高至200-300mg/L，远超祖国排卸原则（10mg/L一下）。 废液成分表及因素 电镀废水关键产自三大流程： 晶圆蚀刻环节 ：含高密度氟化物（HF）、硝酸钠及大量天价属 检查是否自动化设备拋光（CMP）生产废水 ：含纳米技术级硅颗料、有机酸络合剂 机械设备拆洗废水处理 ：含异丙醇、高锰酸盐指数等有机化学物 处理工艺技术方案 适用"化工奠定+沥青混凝土奠定+深度的过滤器"三阶段工作体系： 1级加工处理 ：污泥脱水氯化钙和氢防氧化钙，造成氟化钙水解，氟化物的还原率达85% 特殊处里 ：移除PAC（缩聚氯化铝）和PAM（聚乙烯塑料酰胺），除去橡胶胶体部分态污染源物 三阶段加工 ：依据多媒介过滤系统器和活性氧炭过滤，冒水氟化物溶度安稳在8mg/L下列 要点设备分为：pH手动调控系统性、斜管放置池、板框隔膜压滤机（淤泥脱水怎么办）。 后面功效 品牌程序运行2年监测方案统计资料体现 ： 氟化物人均氧化还原电位：7.2mg/L（最低的国家细则） COD去掉率：92% 污泥干化含水分率：≤65% 年通过氟化钙副商品约150吨，达到信息化通过